Список оборудования

Описание:
Назначение:
Записей на странице:

Название Местонахождение ▲ Описание Дата выпуска Ввод в эксплуатацию
501Импульсный спектрофлуориметр Perkin Elmer LS-55Ресурсный центр «Обсерватория экологической безопасности»Источник возбуждения – импульсные ксеноновые лампы Минимальный объем образцов – 0,3 мл Длина кювет: в диапазоне от 5 до 10 мм Автоматический поляризатор Выносной волоконно-оптический зонд. Связь с внешним персональным компьютером. Программное обеспечение для записи и анализа спектров Рабочие режимы: измерение спектров флуоресценция, фосфоресценция, хеми- или биолюминесценция, и кинетики их затухания Источник: ксеноновая лампа, работающая в пульсирующем режиме с частотой 50 Гц, с длительностью импульса 10 мкс Область длин волн: Возбуждение: не уже чем в диапазоне от 200 до 800 нм; Эмис сия: диапазоне от 200 до 900 нм17/04/201025/12/2013
502Люминесцентный микроскоп Альтами ЛЮМ1Ресурсный центр «Обсерватория экологической безопасности»Коэффициент увеличения: от 40 до 2000 Спектральный диапазон возбуждения люминесценции от 330 до 550 нм Спектральный диапазон исследуемой люминесценции от 409 до 700 нм Система освещения: По системе Кёлера, галогенная лампа 6В/30Вт Источник света: Высоковольтная ртутная лампа HBO с внешним источником питания с аналоговыми индикаторами Светофильтры: жёлтый, зеленый, синий, нейтральный20/03/201025/12/2013
503СпектрофотометрРесурсный центр «Обсерватория экологической безопасности»Спектральный диапазон в диапазонеот 190 до 1100 нм Оптическая схема – Однолучевая Точность отображения длины волны шаг 0,1 нм Точность установки длины волны 0,1 нм Погрешность установки длины волны ± 1,0 нм Воспроизводимость длины волны ± 0,3 нм19/03/201025/12/2013
504Экспресс рамановский спектрометр SenterraРесурсный центр «Оптические и лазерные методы исследования вещества»Область регистрации КР: 80 - 5000 см-1. Длины волн возбуждающего лазерного излучения 488 нм, 532 нм и 785 нм.15/02/201130/11/2012
505Автосканируемая лазерная система TiDi-ScanРесурсный центр «Оптические и лазерные методы исследования вещества»275-1100 нм. CW. Лазер Nd:АИГ 532 нм, 10 Вт, CW, стабильность по мощности 1 %, шум <0.02.15/10/201130/12/2012
506Лазер Verdi V2Ресурсный центр «Оптические и лазерные методы исследования вещества»532 нм, 2 Вт, стабильность по мощности 1 %, шум <0.02.01/09/201130/12/2012
507ИК-Фурье спектрометр Nicolet 8700Ресурсный центр «Оптические и лазерные методы исследования вещества»Спектральный диапазон: 7800 - 350 см-1. Приставка однократного НПВО с алмазным кристаллом для ИК-Фурье. Приставка диффузного отражения.05/05/201130/11/2012
508Лазерный анализатор размера частиц SZ100Ресурсный центр «Оптические и лазерные методы исследования вещества»Лазерный анализатор размера частиц 0.3 нм- 8 мкм. Жидкостный анализ по броуновскому движению.15/05/201130/11/2011
509Спектрофлуориметр LuminaРесурсный центр «Оптические и лазерные методы исследования вещества»Спектральный диапазон 200–900 нм; Источник света: импульсная ксеноновая лампа: Временное разрешение: до 1 мкс; Максимальная скорость сканирования 10 000 нм/мин.15/01/201130/11/2011
510Твердотельный импульсный Nd:YAG лазер с ламповой накачкой SpitLight 2000-50Ресурсный центр «Оптические и лазерные методы исследования вещества»1064 нм, 50 Гц, 8 нс длительность импульса, 1.1 Дж.08/10/201130/12/2012
511Непрерывный одночастотный перестраиваемый лазер на кристалле титан-сапфира MBR-110 с лазером накачки Verdi G5Ресурсный центр «Оптические и лазерные методы исследования вещества»700-1030 нм, ширина линии <75 кГц. Лазер накачки с райзером и чиллером. CW. 532 нм, 5Вт.01/09/201130/12/2012
512Лазер твердотельный с модуляцией добротности Matrix 355Ресурсный центр «Оптические и лазерные методы исследования вещества»355 нм, 1 Вт, 25 нс, <100 кГц.07/08/201130/12/2012
513Спектрометр КРС исследовательского класса T64000Ресурсный центр «Оптические и лазерные методы исследования вещества»Три монохроматора с фокальным расстоянием 0.64 м. Нижний предел определяемых сдвигов: 2 - 5 см-1 (вычитание дисперсии). Фильтрация рассеянного Релеевского света: 10-14 при 20 см-1 (512 нм). Приставка: Микро-Раман.10/02/201130/12/2012
514Спектрофотометр Lambda 1050Ресурсный центр «Оптические и лазерные методы исследования вещества»Спектральный диапазон 175-3300 нм; 2-3 детектора; диапазон измерений оптической плотности – 0-8А; фотометрическая точность и фотометри-ческая воспроизводи-мость не хуже 0.0003A при А=1; разрешающая способность не меньше 0,05 нм в УФ- и видимом диапазоне. Приставки для регистрации спектров диффузного отражения (интегрирующая сфера: d=150мм, спектральный диапазон: 200 – 2500 нм) и для регистрации спектров зеркального отражения под разными углами.10/01/201130/11/2012
515Монолитный одночастотный блочный удвоитель MBD 266Ресурсный центр «Оптические и лазерные методы исследования вещества»266 нм. > 200 мВт, CW.10/09/201130/12/2012
516Лазерный комплекс в составе: - Mira Optima 900-D (2 шт.); - Verdi V10 (2 шт.); - Pulse Switch (2 шт.); - Mira SPO-I (2 шт.); - SHG (2 шт.); - Mira OPO (2 шт.); - Synchro-Lock AP (1 шт.)Ресурсный центр «Оптические и лазерные методы исследования вещества»Ультрабыстрый фемтосекундный/ пикосекундный лазер Ti:Sapphire. 700-980 нм, <3 пс, <200 фс, 76 МГц, TEM00. Лазер Nd:АИГ 532 нм, 10 Вт, CW, стабильность по мощности 1 %, шум <0.02. Акусто-оптический модулятор. 200 Гц - 9 МГц (для фемтосекундной конфигурации), 200 Гц - 4 МГц (для пикосекундной конфигурации), 710-990 нм. Компрессор. Рабочий диапазон 700-900 нм, 70 фс. Генератор второй гармоники 340-540 нм. Оптический параметрический преобразователь, 76 Мгц, 1100-1600 нм. Синхронизатор. <250 фс, <250 пс.01/09/201130/12/2012
517Модульный спектрофлуориметр Fluorolog-3Ресурсный центр «Оптические и лазерные методы исследования вещества»Модульный спектрофлуориметр с двойным монохроматором на возбуждении (200 – 750 нм); Спектральный диапазон измерения флуоресценции и фосфоресценции: до 1800 нм. Отношение сигнал/шум 5000:1; Приставки для измерения времен жизни от 100 пс до секунд Криостат (77К).15/02/201130/11/2012
518Рентгено- и оже-электронный спектрометр Kratos XSAM 800Ресурсный центр «Физические методы исследования поверхности»Спектрометр позволяет проводить исследования методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии внутренних уровней для элементного и химического анализа и растровой оже-спектроскопии для анализа распределения элементов по поверхности наносистем и наноструктурированных объектов. Рентгеновский источник снабжен анодом с четырьмя (Mg, Al, Ti и Ag) рабочими поверхностями для идентификации оже-пиков и анализа более глубоких уровней. Система двухкамерного типа с возможностью перезарядки образцов с атмосферы без нарушения вакуумных условий. Спектрометр Kratos XSAM 800 оснащен современной компьютерной программой сбора и обработки данных.01/01/198810/05/2012
519Научно-исследовательская платформа "Нанолаб"Ресурсный центр «Физические методы исследования поверхности»Комплексный спектрометр Нанолаб состоит из трех взаимосвязанных сверхвысоковакуумных модулей: а) аналитический модуль фотоэлектронной спектроскопии, включающий: сверхвысоковакуумную камеру с полусферическим энергоанализатором VG Scienta R4000 с микроканальным детектором и 3D спиновым детектором Мотта, с шестиосевым моторизированным манипулятором с возможностью охлаждения жидким гелием, с узкополосным высокоинтенсивным источником ультрафиолетового излучения VUV 5k c выдвижным капилляром, с монохроматизированным рентгеновским источником MX 650; сверхвысоковакуумную камеру для подготовки образцов, укомплектованную оборудованием для нанесения тонких пленок и ионного профилирования образцов, дифрактометром медленных электронов OCI BDL800IR c оптикой для оже-электронной спектроскопии; Преимущества модуля фотоэлектронной спектроскопии: - давление в аналитической камере при измерениях не выше, чем 1-2•10-10 мбар, - высокое энергетическое (<1.8 мэВ) и угловое (<0.1°) разрешение анализатора, - шести осевой манипулятор с охлаждением образца до 30 К, - станция кратковременного нагрева до температуры ~2300 К для получения атомной чистоты поверхности монокристаллов тугоплавких металлов, - формирования образцов “in situ” методам локальной молекулярной и атомной эпитаксии с контролем толщины слоев до долей монослоя, молекулярного наслаивания и химической сборки. б) аналитический модуль зондовой микроскопии, включающий: сверхвысоковакуумную камеру со сканирующим зондовым микроскопом Omicron VT AFM XA 50/500, позволяющим исследовать структуру поверхности с атомарным разрешением в широком диапазоне температур; сверхвысоковакуумную камеру для подготовки образцов с оборудованием для нанесения тонких пленок и контроля их параметров методами дифракции медленных электронов и оже-спектроскопии; Преимущества модуля зондовой микроскопии: - сканирование поверхности образцов с атомным разрешением в условиях сверхвысокого вакуума (1-2•10-10 мбар), - сканирование при температурах образца в диапазоне от 50 до 500 К, - возможность осаждения различных веществ на поверхность образца в процессе эксперимента при нахождении образца на столике микроскопа, - возможность приготовления кантилеверов “in situ” методом электронной бомбардировки. в) модуль загрузки и передачи образцов со сверхвысоковакуумными камерами для загрузки, хранения и перемещения образцов между модулями комплекса г) система замкнутого цикла гелия со станцией сжижения.01/01/201210/05/2012
520Рентгеноэлектронный спектрометр VG ESCAlab 5Ресурсный центр «Физические методы исследования поверхности»Спектрометр позволяет проводить исследования методами рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии внутренних уровней для элементного и химического анализа и оже-спектроскопии для анализа распределения элементов по поверхности наносистем и наноструктурированных объектов. Рентгеновский источник снабжен анодом с двумя (Mg и Al) рабочими поверхностями для идентификации оже-пиков и анализа более глубоких уровней. Система трехкамерного типа с возможностью перезарядки образцов с атмосферы без нарушения вакуумных условий. Спектрометр VG ESCAlab 5 оснащен современной компьютерной программой сбора и обработки данных.01/01/198810/05/2012
521Комплексный фотоэлектронный и растровый оже-электронный спектрометр Thermo Fisher Scientific Escalab 250XiРесурсный центр «Физические методы исследования поверхности»Комплексный рентгеноэлектронный, растровый оже-электронный и фотоэлектронный спектрометр Thermo Scientific ESCAlab 250Xi с высоким пространственным и угловым разрешением, картированием распределения элементов по поверхности образца и ионным профилированием распределения элементов по глубине. Спектрометр создан на базе полусферического энергоанализатора с двойной фокусировкой с диапазоном энергий 0-5000 эВ и включает в себя микрофокусный монохроматический источник рентгеновского излучения последнего поколения, систему ионного распылительного профилирования, высокоточную систему визуализации образца, манипулятор с пятью степенями свободы, дифрактометр медленных электронов, камеру перезарядки и предварительную камеру подготовки образцов. Преимущества спектрометра ESCAlab 250Xi: - трехкамерная конфигурация с независимыми системами откачки: аналитический модуль, камера подготовки образцов и камера загрузки образцов, - полусферический анализатор с двумя детекторами: мультиканальным детектором на основе канальных электронных умножителей широкого динамического диапазона и двумерным детектором на основе двойной микроканальной пластины и координатного детектора, - система для визуализации изображений поверхности при помощи РФЭС с пространственным разрешением при сканировании не более 20 мкм, минимальная область анализа при спектроскопии в режиме параллельном визуализации не более 3 мкм, - система магнитных иммерсионных линз для увеличения чувствительности (интенсивности) с сохранением пространственного разрешения, - манипулятор с пятью степенями свободы с функцией нагрева и охлаждения: охлаждение до температуры 170 К и нагрев до температуры 600 К, - растровая электронная пушка на эффекте полевой эмиссии с размером пятна пучка электронов < 95 нм при токе 5 нА и энергии 10 кэВ, - ультрафиолетовый источник с дифференциальной откачкой для проведения исследований валентной зоны с угловым разрешением менее 1.5°, - источник рентгеновского излучения с рентгеновским монохроматором и дифференциальной откачкой, позволяющей проведение измерений при давлении не выше, чем 5•10-10 мбар, - система нейтрализации положительного и отрицательного зарядов, встроенная во входные линзы анализатора, для исследования диэлектриков, - дифрактометр медленных электронов в камере подготовки образцов.01/01/201210/05/2012
522Измеритель удельной поверхности дисперсных материалов ASAP 2020 MPРесурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Диапазон измерения диаметра пор: нижняя граница диапазона 0.35 нм, верхняя граница диапазона 500 нм. 2.Исследования физической и химической адсорбции, в том числе агрессивных газов. 3.Две независимые вакуумные системы:  для анализа образца,  для подготовки образца к анализу. 4.Диапазон измерения давления: нижняя граница 0.001 мм. рт. ст., верхняя граница 950 мм рт ст., разрешение 0.001 мм. рт. ст., погрешность измерения не более 0.15% от измеряемого значения. 5.Встроенная система дегазации с двумя портами. 6.Диапазон температур системы дегазации: нижняя граница диапазона не более температуры окружающей среды, верхняя граница диапазона 450оС. 7.Диапазон давлений: нижняя граница диапазона 0 мм рт. ст., верхняя граница диапазона 950 мм рт. ст.09/11/201115/10/2012
523Прибор для термических испытаний материалов SETSYS Evolution 16 TGA-DTA/DSCРесурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Микровесы: грузоподъемность 35 г, разрешение 0.03 мкг. 2.Моторизованный подъемник микровесов с системой блокировки. 3.Печь с графитовым нагревателем. Диапазон температур: нижняя граница диапазона не более комнатной, верхняя граница диапазона 1600 оС. 4.Устройство блокировки дверцы печи (не открывается при температуре более 70 оС и при наличии вакуума). 5.Точность измерения 0.04оС. 6.Программируемая скорость изменения температуры (в режиме нагревания и в режиме охлаждения) от 0.01оС/мин до 100оС/мин. 7.Время остывания печи не более 35 мин при температуре от 1600оС до 50оС. 8.Система охлаждения – водяная с блокировкой нагрева при снижении расхода подачи воды ниже критического уровня. 9.Диапазон изменения веса: нижняя граница диапазона 0.001 мг, верхняя граница диапазона 200 мг. 10.Точность измерения веса 0.01%, точность измерения теплоемкости – 2% во всем диапазоне температур 11.Разрешение ТГА – 0.002 мг, ДТА - 0.4 мкВт, ДСК – 1 мкВт. 12.Дрейф базовой линии за 1 час не более 10 мг. 13.Возможность подключения масс-спектрометра и ИК-Фурье спектрометра (в комплект не входят). 14.Система безопасности, включая датчик водорода и датчик кислорода. 15.Фитинг для очистки основного газа с устройством контроля расхода (от 24 л/час до 12 л/час) газа по внутреннему давлению. 16.Автоматизированная газовая панель для подачи не менее двух газов.06/09/201105/09/2012
524Установка для исследования адсорбционных взаимодействий в жидкой фазе (на основе кварцевых резонаторов) E-4Ресурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Электронный модуль для измерительной камеры с четырьмя сенсорами. 2.Проточный модуль для кварцевых сенсоров. 3.Насос перистальтический (от 0 мкл/мин до 800 мкл/мин). 4.Кварцевые сенсоры (частота 5 МГц) с золотым покрытием. 5.Кварцевые сенсоры (частота 5 МГц) с покрытием из диоксида кремния (толщина 50 нм). 6.Кварцевые сенсоры (5 МГц) с покрытием из диоксида алюминия (толщина 100 нм). 7.Рабочая температура в диапазоне: нижняя граница диапазона15 оС, верхняя граница диапазона 65оС. 8.Температурная стабильность 0.02оС. 9.Чувствительность по изменению массы 1.8 нг/см2.27/10/201110/09/2012
525Универсальный прибор для приготовления газовых смесей ProGasMixРесурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Приготовление газовых смесей на основе ротаметров. 2.Обеспечивает сушку и увлажнение газов. 3.Входы для газов (например: O2, воздух, N2, Ar, CO, CO2, 5% H2 в Ar ) через соединения (типа Swagelok или эквивалент, рассчитанные на диапазон давления от 2 бар до 12 бар. Количество смешиваемых газов - до 3 (по выбору). 4.Маршрутизация: вывод не менее 2 специфических газовых смесей (по выбору) через 4 выхода. 5.Давление в миксере и на выходах – атмосферное. 6.Расходомеры (игольчатого типа). 7.Поток на выходах:1 - 50 мл/мин. 8.Увлажнение газовой смеси с использованием барботера, охлаждаемого термоэлектрическим преобразователем (элемент Пелтье). 9.Сушка: ловушки водяного пара (с использованием молекулярных сит). 10.Материал соединительных трубок – медь, бронза.16/10/201116/01/2013
526Планетарная шаровая мельница PM 100 CMРесурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Типы обрабатываемых материалов: мягкий, твердый, хрупкий, волокнистый (сухой, влажный). 2.Исходный размер частиц не более 10 мм. 3.Конечная тонкость измельчения: 1 мкм, для коллоидного измельчения 0.1 мкм. 4.Соотношение скоростей вращения диска и стакана: 1:1 5.Скорость планетарного диска в диапазоне: нижняя граница диапазона 100 об/мин, верхняя граница диапазона 650 об/мин. 6.Эффективный диаметр планетарного диска 140 мм. 7.Материал мелющих средств (стаканов и шаров): нержавеющая сталь и агат. 8.Объем размольного стакана: 125 мл. 9.Установка времени измельчения: цифровая, от 1 сек, верхний предел до 90 часов. 10.Возможность установки интервала с реверсивным движением. 11.Время паузы: нижний предел от 1 сек, верхний предел от 90 часов 12.Возможность сохранения параметров рассева, не менее 10 параметров. 13.Наличие интерфейса: RS 232 / RS 485. 14.Привод: асинхронный двигатель с частотным преобразователем. 15.Мощность привода 700 Вт. 16.Потребляемая мощность 1300 Вт.10/11/201110/09/2012
527Автоматическая установка (Солар-МН) для синтеза бинарных соединений методом Молекулярного НаслаиванияРесурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Максимальный диаметр подложки 200 мм; 2.Максимальная загрузка реактора 5 пластин; 3.Температура синтеза до 350оС; 4.Максимальная скорость нанесения слоев 0,3 мкм/час; 5.Разброс по толщине покрытия не более 2 %; 6.Количество жидких прекурсоров, используемых в процессе синтеза не менее 3 шт.; 7.Потребляемая мощность установки 3 кВт; 8.Возможность проведения синтеза в условиях вакуума.07/06/201213/10/2012
528Установка для синтеза пленок оксидов металлов методом Молекулярного Наслаивания НаносерфРесурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Максимальный диаметр подложки 100 мм; 2.Максимальная загрузка реактора 10 пластин; 3.Температура синтеза до 350оС; 4.Максимальная скорость нанесения слоев 0,3 мкм/час; 5.Разброс по толщине покрытия не более 2 %; 6.Количество жидких прекурсоров не менее 3 шт.; 7.Количество твердых прекурсоров не менее 1 шт.; 8.Потребляемая мощность установки 3 кВт; 9.Возможность проведения синтеза в условиях вакуума.10/01/201214/10/2012
529Установка для измерения электрохимических характеристик материалов Solartron 12608WРесурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»Импедансметр: 1.Частотный диапазон измерений: верхний предел 32 МГц, нижний предел 10 мкГц. 2.Частотное разрешение 0,015 ppm. 3.Точность: 0,1%, 0,1°. 4.Верхний предел измеряемых сопротивлений 100 МОм. 5.Схема подключения 2-х, 3-х и 4-х электродная. 6.Напряжение поляризации ±40,95 В. Потенциостат/гальваностат: 1. Схема подключения 2-х, 3-х и 4-х электродная. 2. Характеристики рабочего электрода: 2.1 измерение тока в диапазоне сопротивлений: нижний предел 0.1 Ом, верхний предел 1 Мом. 2.2 рабочий диапазон по току: верхний предел 2 А, нижний предел 200 нА. 2.3 погрешность: 0.1 % ± 0.05 % диапазона. 3. Характеристики противоэлектрода: 3.1 выходное напряжение: ± 30 В. 3.2 ток, предел тепловой защиты 2 А. 3.3 скорость нарастания напряжения: 10 В/мкс. 4. Характеристики электрода сравнения: 4.1 входное сопротивление: 10 ГОм, емкость 50 pF, 4.2 ток: 1 нА, 4.3 предел ошибки установки потенциала: 0.1 % ± 100 мкВ. 5. Рабочие диапазоны измерения на постоянном токе: 5.1. диапазон напряжения: ± 14.5 В, 5.2 пределы ошибки: при U < 3.2 В: 0.2 % ± 200 мкВ, при U> 3.2 В: 0.2 % ± 2 мВ, 5.3 максимальное разрешение: 100 мкВ, 5.4 диапазон тока: ± 2 А, 5.5 предел ошибки: 0.2 % ± 0.1 % диапазона, 5.6 максимальное разрешение: 100 пА, 5.7 постоянный ток, аналоговый сигнал: скорость изменения напряжения - нижний предел 6 мВ/мин, верхний предел 6000 В/мин.13/03/201210/11/2012
530Установка для напыления покрытий Q150T ESРесурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Рабочая камера из борсиликатного стекла с внутренним диаметром 150 мм и высотой 127 мм, откачиваемая турбо-молекулярным насосом. 2.Наличие внутреннего защитного ПЭФ экрана. 3.Наличие цветного сенсорного дисплея. 4.Вакуумметр Пирани (полнодиапазонный). 5.Разрежение, поддерживаемое при напылении по величине 5∙10-1- 5∙10-3 мбар. 6.Держатель для образца: вращающийся, диаметром 60 мм, скоростью вращения 8-20 об/мин. 7.Мишень для напыления: хромовая дисковая диаметром 57 мм, толщиной 0,3 мм. 8.Устройство для испарения углеродных стержней с набором углеродных стержней (диаметром 3 мм и длиной 300 мм, количество –10 шт). 9.Возможность напыления покрытий по установленному таймеру либо по предварительно заданной толщине. 10.Время непрерывного напыления не менее 60 минут. 11.Автоматический контроль разрежения. 12.Возможность подключения к сети по Ethernet. 13.Дополнительно: возможность проведения раcпыления в аргоне. 14.Возможность обработки поверхности подложки в условиях газового разряда05/02/201220/09/2012
531Высокотемпературная печь Lindberg Blue M с цифровым программируемым контроллером мод. СС59256PCOMC-1Ресурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Муфельная печь с максимальной температурой нагрева 1700оС. 2.Мощность 5 кВт, 220 В. 3.Нагреватель из дисилицида молибдена. 4.Корпус с двойными стенками, охлаждаемыми вентилятором 5.Камера с разборными панелями. 6.Объем нагревательной камеры 9 л. 7.Возможность подключения многопрограммного контроллера через RS-485 порт для управления процессом нагрева. 8.Сменная подовая плита. Контроллер: 1.Блок электропитания и терморегулирующий модуль выполнены в едином корпусе, предусматривающем установку на него сверху исполнительного блока печи. 2.Терморегулирующий модуль имеет цифровой индикатор температуры и режима работы, возможность работы в режиме пропорционально-интегрально-дифференциального (ПИД) регулятора, имеет 2 канала измерения и регулирования (основной канал измерений и управления, канал аварийной сигнализации и аварийного отключения по превышению максимальной температуры нагрева). 3.Терморегулирующий модуль имеет возможность работать с платинородий-платинородиевыми термопарами (тип B), подключенными с помощью поляризованного штепсельного разъёма термопары исполнительного блока печи, и обеспечивает компенсацию температуры холодного спая. 4.Терморегулирующий модуль имеет функцию программного пошагового ПИД-регулирования (диапазон измерений и управления от 50 до 1700º С, максимальное количество шагов в каждой программе не менее 10 шагов, максимальная длительность отдельного шага в программе 8 часов, минимальная длительность отдельного шага в программе 10 минут, возможность задания не менее 3 независимых программ). 5.Блок электропитания печи обеспечивает защиту исполнительного блока печи от токов перегрузки, токов короткого замыкания и сверхтоков. 6.Терморегулирующий модуль имеет возможность подключения ко внешним управляющим устройствам посредством протокола RS-485.13/07/201215/10/2012
532Спектральный эллипсометрический комплекс Эллипс 1891 САГРесурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Спектральный диапазон для определения оптических характеристик и толщин пленок: от 350 до 1000 нм. 2.Спектральное разрешение: 2,5 нм. 3.Диапазон измеряемых толщин: 20000 нм. 4.Погрешность измерения толщин: не более 0,3 нм. 5.Погрешность измерения коэффициента преломления: не более 0,01 6.Время единичного измерения: 1мс/точка. 7.Изменение углов падения (фиксировано): в диапазоне от 45 до 70º (через 5º) и 90º 8.Пределы перемещения предметного столика: по двум координатам в диапазоне: от 0 до 25 мм вертикальное перемещение в диапазоне: от 0 до 20 мм 9.Диаметр светового луча 3 мм.28/02/201202/11/2012
533Настольная испытательная машина AG-50kNXDРесурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Возможность автоматической калибровки усилия растяжения и сжатия. 2.Диапазон скорости траверсы: от 0.0005 до 1000 мм/мин, произвольная бесступенчатая установка. 3.Максимальная скорость возврата 1200 мм/мин. 4.Программное обеспечение для испытаний на растяжение, сжатие, изгиб, расслаивание и т.п.05/02/201215/09/2012
534Синтезатор пептидов Endeavor 90-1Ресурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Синтезатор обеспечивает получение привитых пептидов в 2 реакционных сосудах объёмом 50 мл одновременно. 2.Синтезатор обеспечивает сборку пептидов из не менее чем 4-х аминокислот в ходе одного синтеза без перезаправки сосудов для реагентов. 3.Использование in-situ и/или пре-активационных протоколов. 4.Возможность верхней или нижней подачи реагентов в реакционный сосуд 5.Быстрое опорожнение реакционных сосудов давлением газа 10 psi. 6.Прибор снабжён системой создания инертной атмосферы над синтетической средой для проведения работ с влагочувствительными объектами. 7.Перемешивание реакционной среды обеспечивается качанием сосуда, барботажем инертного газа и совмещением качания и барботажа. 8.Shower Head (душевая насадка) технология для обеспечения быстрого и экономичного смыва реакционной смеси из сосудов. 9.Прибор выполнен как закрытая система (не требует отдельного бокса) 10.Аварийная остановка вручную или программно в любой момент. 11.На прибор устанавлены химически инертные трубки и клапаны. 12.Прибор обеспечивает он-лайн мониторинг реакции, давления, имеет фотодетекторы подачи жидкости, фотодетекторы заполнения/опорожнения реакторов.15/07/201215/10/2012
535Реактор высокого давления Berghoff HRРесурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Реактор изготовлен из нержавеющей стали (SS 316 или аналог) объёмом 600 мл. 2.Внутренние части реактора футерованы PTFE (перфторэтиленовой) футеровкой. Для емкости реактора предусмотрена съемная футеровка из PTFE толщиной не менее 3 мм. Для крышки реактора предусмотрена несъемная футеровка PTFE толщиной 4 мм. 3.Реактор снабжён магнитной якорной мешалкой с приводом через магнитную муфту, крутящий момент 100 Н*см. Количество оборотов от 0 до 500 оборотов в минуту. 4.Реактор снабжён клапанами для подачи реагентов и отбора проб и создания атмосферы, охлаждающим змеевиком, манометром и предохранительной разрывной пластиной. 5.Обогрев реактора осуществляется печью сопротивления мощностью 850 Вт питающейся от сети 220 В 50 Гц, позволяющей нагревать реактор до максимальной температуры 3000С.07/07/201210/09/2012
536Микроволновая станция автоклавной пробоподготовки и синтеза ETHOS ONEРесурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Количество магнетронов в корпусе 2 шт. 2.Полезная микроволновая мощность 1600 Вт. 3.Равномерность излучения по камере: наличие пирамидального микроволнового перемешивателя для создания однородности излучения в камере. Неравномерность излучения: не более 3%. 4.Режимы подачи микроволн: непрерывный и пульсирующий, программно выбираемые пользователем. Для обоих режимов наличие обратной связи параметр-микроволновое излучение. 5.Конструкция корпуса: из нержавеющей стали. Полифторэтиленовое покрытие всех внешних и внутренних поверхностей корпуса. Наличие в верхней части камеры отвода для установки вне камеры колбы с обратным холодильником для проведения синтеза в колбах большого объема (до 4- х литров) при атмосферном давлении. 6.Подпружиненная конструкция двери, для возможности сброса давления в аварийном режиме. Дверь полностью изготовлена из стали и покрыта несколькими слоями из политетрафторэтилена. 7.Наличие автоматического блокиратора, не позволяющего открывать дверь до того момента, пока температура внутри системы не опустится до безопасной отметки. 8.Видеосистема контроля: наличие встроенной видеокамеры для онлайн просмотра состояния ротора и датчика температуры во время работы микроволновой системы. Фторопластовая защита видеокамеры от кислот и растворителей. 9.Встроенная система магнитного перемешивания растворов во всех автоклавах во время микроволнового облучения. Регулирование скорости перемешивания, с помощью контроллера. 10.Число сосудов не менее 10 шт. 11.Объем сосуда не менее 100 мл. 12.Максимальная температура 300°C. 13.Максимальное давление 100 атм.12/02/201215/09/2012
537Микрокомпаундер-экструдер HAAKE Minilab IIРесурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Максимальная рабочая температура 350°С 2.Диапазон рабочих скоростей 1-360 об/мин 3.Рабочее давление 200 бар. 4.Встроенная система продувки инертным газом. 5.Наличие двух конусно расположенных шнеков из нержавеющей стали. 6.Возможность со- и разнонаправленного вращения шнеков. 7.Крутящий момент до 5 Нм на каждый шнек. 8.Встроенная система измерения вязкости. 9.Скорость выхода образцов до 2 г/мин. 10.Рабочий объём образца до 7 см3 (не менее 5 г). 11.Пневмозагрузчик смеси. 12.Разборная шнековая камера. 13.Возможность автоматической байпасной циклической подачи образца обратно на шнек. 14.Наличие модуля для ручной загрузки материала (manual feeding). 15.Возможность автоматического (по протоколу RS-232), а также ручного управления через дистанционную панель управления. 16.Литьевая машина с адаптером и с набором литейных форм.16/02/201210/09/2012
538Вибрационный магнитометр Lake Shore 7410Ресурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Прибор способен создавать в ходе измерения магнитом поля до 2,3 Тл. 2.Измерение намагниченности производится в диапазоне от 10-7 и до 103 Ам2/кг. 3.Прибор позволяет производить анализ магнитных свойств образцов массой до 10 г. 4.Разрешение прибора по полю на всём диапазоне измерений 0,1 Э, в диапазоне от 0 – 300 Э –0,001 Э. 5.Прибор имеет возможность термостатировать исследуемые образцы в диапазоне от 5.5 до 450 К. 6.Прибор снабжён вакуумной системой с турбомолекулярным насосом для создания вакуума в области образца до значения не более 5 * 10-3 мм.рт.ст. 7.Прибор позволяет проводить измерения в инертной атмосфере. 8.Разрешение прибора по температуре 0,01 К.06/03/201205/09/2012
539Полировально-шлифовальный станок (настольный) EcoMet250 + AutoMet250Ресурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1. Станок обеспечивает поддержку не менее 6 образцов с центральной или индивидуальной нагрузкой, переменную скорость вращения в обоих направлениях и снабжен светодиодной индикацией режимов работы и сенсорным светодиодным экраном для задания режимов работы. 2. Диаметр диска 200 мм. 3. Скорость вращения круга: от 10 до 500 об/мин с шагом 10 об/мин. 4. Направление вращения круга: прямое/обратное. 5. Скорость вращения насадки: от 30 до 60 об/мин с шагом 10 об/мин. 6. Направление вращения насадки: прямое/обратное. 7. Центральная нагрузка: от 20 до 260 Н. 8. Индивидуальная нагрузка: от 5 до 45 Н. 9. Подсветка рабочей зоны: светодиодная. 10. Функция паузы. 11. Охлаждение диска. 12. Водоснабжение: проточная вода. 13. Возможность сохранения в памяти до 32 индивидуальных программ обработки.15/05/201220/12/2012
540Прецизионный отрезной станок (настольный) IsoMet 100Ресурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Мощность двигателя 90 Вт 2.Скорость вращения вала от 100 до 975 об/мин 3.Автоматическое выключение. 4.Система скользящей нагрузки с противовесом от 0 до 500 г. 5.Встроенный цифровой микрометр (дюймовый, метрический) поперечной подачи для размещения образца 6.Съемный желоб охлаждения с устройством правки. 7.Набор лезвий для различных материалов.18/04/201215/01/2013
541Таблеточный пресс РР 40Ресурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Режим работы автоматический. 2.Максимальное давление 40 тонн. 3.Прилагаемое усилие в диапазоне: 5 - 40 тонн. 4.Время цикла прессования: 5 - 600 сек. 5.Возможность сохранения программ прессования, состоящих из разных наборов параметров 32 программ. 6.Управление одной кнопкой с графическим дисплеем. 7.Материал пресс-плиты: карбид вольфрама. 8.Стальные кольца (внешний диаметр от 35 мм до 45 мм, внутренний диаметр 30 мм до 35 мм).10/12/201117/09/2012
542Установка электрохимического формирования нанопористых материалов AMMTРесурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Двухкамерная высокочастотная система травления с платино-иридиевым электродом в каждой камере. 2.Сапфировое окно для освещения подложек. 3.Пневматический механизм для работы в изолированном объеме. 4.Удерживающее приспособление и кожух. 5.Высокоскоростная циркуляционная система на основе тефлонового мембранного насоса с контроллером. 6.Держатель для подложки (диаметр 100 мм). 7.Программируемый источник питания (12 А).01/01/201501/12/2015
543Мультиметр для электрофизических измерений 34420AРесурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1. Пределы измерений: по напряжению: нижний 1 мВ, верхний 100 В, по сопротивлению: нижний 1 Ом, верхний 1 МОм 2. Цифровое разрешение не менее 7 ½ знака. 3. Чувствительность 100 пиковольт/100 наноом. 4. Собственный шум не более 1,3 нановольт. 5. Компенсация напряжения смещения для уменьшения влияния термоЭДС на результат измерений. 6. Два канала для сравнения двух напряжений. 7. Скорость измерения 250 раз в секунду. 8. Встроенный двухканальный сканер 9. Обеспечивает прямые измерения эталонных платиновых резистивных термометров, резистивных датчиков температуры, показаний термисторов и термопар. 10. Математические функции: автокалибровка и установка нуля, вычисление минимального, максимального и среднего значений, вычитание, усреднение (не менее 10 и не более 100 значений) 11. Интерфейсы: RS-232; GPIB (IEC-625 стандарт ГОСТ 26.003-80) для передачи данных на имеющейся компьютер.16/11/201118/09/2012
544Печь трубчатая RT50-250/13Ресурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Максимальная температура –1300 С. 2.Регулируемый угол наклона и регулируемая высота. 3.Внутренний диаметр трубы 50 мм. 4.Потребляемая мощность 1,8 кВт. 5.Термопара типа S. 6.Распределительное устройство с контроллером (P 330 или эквивалент).22/03/201220/12/2012
545Установка для нанесения покрытий методом распыления раствора WS-650Mz-23NPPРесурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Камера прибора изготовлена из материала выдерживающего длительное воздействие минеральных кислот, щелочей и спиртов. 2.Возможность обработки образцов размером от 3 мм до пластин диаметром 150 мм (с соответствующими держателями). 3.Максимальная скорость вращения 12000 об/с. 4.Прибор снабжён автоматизированной системой подачи раствора на вращающуюся пластину. 5.Камера снабжена защитной крышкой с датчиком открытия. 6.Питание электрооборудования прибора должно осуществляться напряжением 220 ± 15 В с частотой 50 Гц.11/03/201225/12/2012
546Система горячего прессования FR210-30T-A-200-EVCРесурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Установка обеспечивает усилие прессования 27 т и максимальную температуру прессования 1500˚С. 2.Процесс прессования может проводиться в регулируемой газовой атмосфере (окислительная или инертная среда, вакуум). 3.Размер горячей зоны для размещения пресс-форм 75*100 мм. 4.Установка имеет контроллер, обеспечивающий автоматическое регулирование температуры и давления. 5.Потребляемая мощность 20 КВА. 6.В комплект установки входит вакуумный насос, обеспечивающий в камере вакуум по величине 1*10-2 Торр.01/01/201225/12/2016
547Установка для плазмо-стимулированного осаждения из газовой фазы ET 4300Ресурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Кварцевый реактор горизонтальный, способный разместить подложку диаметром 100 мм. 2.Пять линий подачи газа с индивидуальным контролем потока каждой линии. 3.Статический миксер для оптимального смешивания газовой смеси. 4.Интегрированная система автоматического контроля вакуума для создания и поддержания пониженного давления в процессе синтеза. 5.Генератор плазмы DC-типа (постоянного тока). 6.Генератор плазмы RF-типа (переменного тока). 7.Рабочая температура в режиме использования плазмы – 800оС, в режиме термального нагрева – 1100о С. 8.Система сжигания выходящих газов.01/01/201501/12/2015
548Установка для синтеза пленок методом послойного атомного осаждения TFS-200Ресурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Установка имеет реактор для плоских подложек диаметром 200 мм и высотой 3 мм с термостатированием в диапазоне температур от 20˚С до 500˚С. 2.Установка имеет реактор для обработки дисперсных материалов в режиме взвешенного слоя с насыпным объемом 75 см3 и с возможностью нагрева до 450˚С. 3.Установка имеет 3 линии подачи газов, в том числе 1 линия подачи неагрессивных газов и 2 линии подачи для агрессивных и токсичных газов. 4.Установка имеет 3 линии подачи паров жидких реагентов с термостатируемыми резервуарами с датчиком давления. 5.Установка имеет 2 линии подачи паров твёрдых и труднокипящих жидких реагентов с 2-мя контейнерами для реагентов с возможностью подогрева до 300˚С, с датчиками давления. 6.Установка позволяет проводить синтез в вакууме и потоке инертного газа-носителя. 7.Реактор, газовые магистрали, запорная арматура и резервуары для реагентов выполнены из коррозионно-стойкой нержавеющей стали.01/01/201401/12/2014
549Установка для комплексного измерения диэлектрических свойств материалов Novocontrol Concept 40Ресурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Область рабочих частот в диапазоне: нижняя граница диапазона 3 мкГц верхняя граница диапазона 20 МГц. 2.Диапазон температур от -160 оС до +400оС. 3.Температурная стабильность 0.01оС. 4.Максимальная скорость нагрева/охлаждения 20оС/мин. 5.Модуль нагрева газа. 6.Стабилизированные источники питания. 7.Температурный контроллер. 8.Ячейка для образцов с золочеными контактами. 9.Криостат. 10.Двухступенчатый вакуумный насос. Вакуумный вентиль с цифровым управлением.03/09/201116/10/2012
550Приставка для электрофизических измерений ProboStatРесурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов»1.Диаметр внешний 40 мм. 2.Рабочая длина 50 см, полная длина 80 см. 3.Одиночное днище. 4.Диаметр дисковых образцов 24 мм. 5.Длина стержневых образцов 40 мм. 6.Крепление образцов – пружинное. 7.Рабочая атмосфера: окисляющая, инертная, заданная, сухая влажная. 8.Температура: при длительном использовании не более 1400 оС, при кратковременном использовании не более 1600 оС. 9.Водяное охлаждение.19/12/201110/10/2012