| № |
Название |
Местонахождение |
Описание |
Дата выпуска |
Ввод в эксплуатацию ▲ |
|---|
| 701 | Установка для синтеза пленок методом послойного атомного осаждения TFS-200 | Ресурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов» | 1.Установка имеет реактор для плоских подложек диаметром 200 мм и высотой 3 мм с термостатированием в диапазоне температур от 20˚С до 500˚С.
2.Установка имеет реактор для обработки дисперсных материалов в режиме взвешенного слоя с насыпным объемом 75 см3 и с возможностью нагрева до 450˚С.
3.Установка имеет 3 линии подачи газов, в том числе 1 линия подачи неагрессивных газов и 2 линии подачи для агрессивных и токсичных газов.
4.Установка имеет 3 линии подачи паров жидких реагентов с термостатируемыми резервуарами с датчиком давления.
5.Установка имеет 2 линии подачи паров твёрдых и труднокипящих жидких реагентов с 2-мя контейнерами для реагентов с возможностью подогрева до 300˚С, с датчиками давления.
6.Установка позволяет проводить синтез в вакууме и потоке инертного газа-носителя.
7.Реактор, газовые магистрали, запорная арматура и резервуары для реагентов выполнены из коррозионно-стойкой нержавеющей стали. | 01/01/2014 | 01/12/2014 |
| 702 | Установка для плазмо-стимулированного осаждения из газовой фазы ET 4300 | Ресурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов» | 1.Кварцевый реактор горизонтальный, способный разместить подложку диаметром 100 мм.
2.Пять линий подачи газа с индивидуальным контролем потока каждой линии.
3.Статический миксер для оптимального смешивания газовой смеси.
4.Интегрированная система автоматического контроля вакуума для создания и поддержания пониженного давления в процессе синтеза.
5.Генератор плазмы DC-типа (постоянного тока).
6.Генератор плазмы RF-типа (переменного тока).
7.Рабочая температура в режиме использования плазмы – 800оС, в режиме термального нагрева – 1100о С.
8.Система сжигания выходящих газов. | 01/01/2015 | 01/12/2015 |
| 703 | Установка электрохимического формирования нанопористых материалов AMMT | Ресурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов» | 1.Двухкамерная высокочастотная система травления с платино-иридиевым электродом в каждой камере.
2.Сапфировое окно для освещения подложек.
3.Пневматический механизм для работы в изолированном объеме.
4.Удерживающее приспособление и кожух.
5.Высокоскоростная циркуляционная система на основе тефлонового мембранного насоса с контроллером.
6.Держатель для подложки (диаметр 100 мм).
7.Программируемый источник питания (12 А). | 01/01/2015 | 01/12/2015 |
| 704 | Система горячего прессования FR210-30T-A-200-EVC | Ресурсный центр «Центр инновационных технологий композитных наноматериалов» | 1.Установка обеспечивает усилие прессования 27 т и максимальную температуру прессования 1500˚С.
2.Процесс прессования может проводиться в регулируемой газовой атмосфере (окислительная или инертная среда, вакуум).
3.Размер горячей зоны для размещения пресс-форм 75*100 мм.
4.Установка имеет контроллер, обеспечивающий автоматическое регулирование температуры и давления.
5.Потребляемая мощность 20 КВА.
6.В комплект установки входит вакуумный насос, обеспечивающий в камере вакуум по величине 1*10-2 Торр. | 01/01/2012 | 25/12/2016 |
